Hikmat A Hamad、Nibras F Ali 和 Haitham M Farok
低能溅射离子源的运行特性
本工作设计并构建了一种用于离子溅射的改进型 Freeman 离子源。选择该离子源是因为它在采用离子注入技术的半导体工业中取得了显著的成功。给出了离子源设计和制造的详细技术描述。进行了热电子发射电流测量,并密切监测了离子源的放电特性。此外,研究了一些参数(例如溅射电压、压力、磁场强度、电弧电压和灯丝电流)对溅射电极电流值的影响。我们发现这些参数可以独立变化,使我们能够控制离子源操作和溅射过程。使用简单的不锈钢提取板提取离子束的主要结果显示,在溅射过程中检测到的总离子束电流减少。